国内高端粉末式原子层沉积系统GM系列原子层沉积（Atomiclayerdeposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术，具有自限性和自饱和。原子层沉积技术主要应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。产品描述厦门韫茂科技公司的GM系列自动粉末原子层沉积设备它可以在微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积或分子层沉积生长，GM1000的反应室可自动运行ALD(原子层沉积)或MLD(分子层沉积)，设备配有独立控制的300℃完整加热反应腔室系统，保证工艺温度均匀。该系统具有专利粉末样品桶、动态粉末流化机构、全自动

面议查看详情

单腔型高真空蒸镀系统产品详情：单腔设计，紧凑经济，轻松拥有高质量镀膜系统。技术参数：1极限真空：<2E-7Torr2排气速率：从ATM到3E-6Torr<15min3基板加热：RT-300ºC4高分辨率镀膜速率显示及控制：±0.015Å5**基板尺寸：200mm6前后门设计可集成手套箱：可选配手套箱7人机界面：自动化人机操作界面8安全：全工业标准安全互锁，工业安全联锁，报警装置厦门韫茂科技有限公司凭借在先进材料设备业务方面多年的经验，韫茂为新型芯片，半导体和锂电池领域的新材料开发和生产，提供***的纳米工艺设备和服务解决方案。根据您的特殊需求，我们为您定制打造创新纳米加工平台，保证

面议查看详情

桌面式平片原子层沉积系统原子层沉积（Atomiclayerdeposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术，具有自限性和自饱和。原子层沉积技术主要应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。产品描述厦门韫茂科技公司研发的超小型桌式ALD原子层沉积设备是先进材料研究的有力设备之一，它可以在6寸晶元（向下兼容）和微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积，具有广泛的应用领域，设各配有独立控制的300℃完整加热反应腔室系统，保证工艺温度均匀，该系统具有专利粉末样品桶、晶元載盘，全自动温控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温

面议查看详情